cvd-prozess-pbn-gefäße
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Pbn-pyrolytisches Bornitrid-Boot für die Halbleiterherstellung
PBN-Schiffchen werden im CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition) hergestellt und zeichnen sich durch außergewöhnliche Reinheit, hervorragende thermische Stabilität und ausgezeichnete elektrische Isolierung aus. Aufgrund ihrer Eigenschaften eignen sich PBN-Schiffchen ideal für die Halbleiterherstellung, das Präzisionskristallwachstum und andere Hochtemperaturprozesse. Bei Fragen senden Sie bitte eine E-Mail an info@mascera-tec.com oder rufen Sie +86 13860446139 an.
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