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Keramische Werkstoffe – insbesondere technische Keramik – sind aufgrund ihrer herausragenden Eigenschaften aus der modernen Industrie nicht mehr wegzudenken. Diese Werkstoffe finden breite Anwendung in Branchen wie Elektronik, Maschinenbau, Metallurgie, Energie, Luft- und Raumfahrt, Chemie und Medizintechnik und ersetzen in anspruchsvollen Anwendungen häufig Metalle.

Aluminiumoxidkeramikrohre werden aufgrund ihrer hohen Temperaturstabilität, ihrer ausgezeichneten Thermoschockbeständigkeit und ihrer herausragenden Haltbarkeit häufig in industriellen Hochtemperaturanwendungen eingesetzt. Eine der häufigsten Anwendungen sind Keramikrohre in Hochtemperaturöfen zur Wärmebehandlung, zum Sintern und zum Schutz von Thermoelementen.

In diesem Artikel werden die Unterschiede zwischen Vakuumspannfuttern aus Aluminiumoxidkeramik und elektrostatischen Spannfuttern, ihre jeweiligen Funktionsprinzipien und ihre Anwendungen in der Halbleiterfertigung und Präzisionsindustrie untersucht.

Die Hochleistungseigenschaften von Hochleistungskeramik machen sie für die Modernisierung von Heimrobotern unverzichtbar. Von Keramiklagern zur Verbesserung der Bewegungskomponenten über Keramikklingen zur Optimierung der Reinigungseffizienz bis hin zu Aluminiumnitrid-Keramiksubstraten zum Schutz elektronischer Komponenten.

Siliziumkarbid (SiC) ist ein vielseitiger Werkstoff, der sowohl in Halbleiteranwendungen als auch in verschleißfesten Komponenten eingesetzt wird. Es gibt jedoch wesentliche Unterschiede zwischen SiC-Wafern und gesintertem Siliziumkarbid (SSiC) hinsichtlich Kristallstruktur, elektrischer Leitfähigkeit, Herstellungsverfahren und Anwendung.

Ein Stiftmessgerät aus Zirkonoxidkeramik bietet hohe Präzision, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit und ist ideal für die Zerspanungs-, Elektronik- und Chemieindustrie. Mit Dimensionsstabilität und Anpassungsoptionen gewährleistet es genaue und dauerhafte Messungen.

Anfang 2025 gab die KYOCERA Fineceramics Europe GmbH die Gründung einer neuen Anlage in Erfurt, Deutschland, bekannt, um ihre bestehenden Kapazitäten im Bereich der Mehrdrahtsägetechnologie und Produktionsinfrastruktur zu erweitern.

Am 23. Dezember berichteten Medien wie The Economic Times, dass Silectric Semiconductor, eine Tochtergesellschaft der Zoho Corporation, in Karnataka die erste Halbleiterfabrik in Indien errichten werde, die auf die integrierte Produktion von Siliziumkarbid spezialisiert sei.

Kyocera hat kürzlich die Entwicklung eines neuen Siliziumnitrid-Keramikmaterials für Funktionstests von Mikrochips der nächsten Generation angekündigt. Dieses neue Material zeichnet sich durch verbesserte Wärmeausdehnungseigenschaften und Biegefestigkeit aus und ermöglicht die Herstellung dünner Siliziumnitridplatten mit extrem schmalen Abständen zwischen den Kontaktsonden, was für Tests von Mikrochips der nächsten Generation von entscheidender Bedeutung ist.

Kürzlich hat KYOCERA den ersten Spatenstich für seine Feinkeramikfabrik für medizinische Implantate in Waiblingen bei Stuttgart gefeiert. Diese Anlage ist auf die Herstellung hochwertiger Keramikköpfe für Hüftprothesen und andere Implantatanwendungen spezialisiert. Das Projekt soll im September nächsten Jahres abgeschlossen sein.

Vor Kurzem hat das australische Unternehmen Alpha HPA mit dem Bau der zweiten Phase der weltweit größten Raffinerie für hochreine Aluminiumoxidoxid an einem Standort begonnen.

Laut Angaben von QY Research betrug das weltweite Marktvolumen für Siliziumkarbidkeramik (SiC), die in Halbleitern verwendet wird, im Jahr 2023 1,111 Milliarden US-Dollar. Aufgrund der starken Nachfrage der nachgelagerten Industrien wird prognostiziert, dass der Markt für Siliziumkarbidkeramik bis 2030 auf 1,578 Milliarden US-Dollar wachsen wird, mit einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate (CAGR) von 5,09 % zwischen 2024 und 2030.