Aluminiumnitrid Keramik

Aluminiumnitrid (AlN) ist ein äußerst wünschenswertes Material für Anwendungen, die eine hohe Wärmeleitfähigkeit und elektrische Isolationseigenschaften erfordern. Dies macht es zu einer idealen Wahl für Wärmemanagement und elektrische Anwendungen. Darüber hinaus weist Aluminiumnitrid-Keramik einen Wärmeausdehnungskoeffizienten und elektrische Isolationseigenschaften auf, die denen von Silizium-Wafer-Material sehr ähnlich sind. Dadurch erweist es sich als wertvolles Material für Elektronikanwendungen, bei denen hohe Temperaturen und eine effiziente Wärmeableitung oft eine Herausforderung darstellen

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Aluminiumnitrid-Keramik-Isolatorteile sind Hochleistungskeramikprodukte, die hauptsächlich aus Aluminiumnitrid (AlN) hergestellt werden. Aluminiumnitrid-Keramik weist eine hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete elektrische Isolierung, gute thermische und chemische Stabilität sowie hohe Festigkeit und Härte auf. Diese Eigenschaften machen Aluminiumnitrid-Keramik in verschiedenen Branchen weit verbreitet einsetzbar, darunter Elektronik und Elektrik, Halbleiter, Militär, Luft- und Raumfahrt, Automobil usw.

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Aluminiumnitrid-Keramik, auch AlN-Keramik genannt, hat die Vorteile einer hohen Wärmeleitfähigkeit, eines guten elektrischen Widerstands und einer geringen Dichte; der Koeffizient von Aluminiumnitrid-Keramik ist dem von Silizium ähnlich. Die hervorragenden Eigenschaften machen Aluminiumnitridkeramik zu einem idealen Material für Anwendungen, bei denen eine gute Wärmeverteilungsfähigkeit und eine gute elektrische Isolierung erforderlich sind.

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Aluminiumnitrid-Keramik, auch AlN-Keramik genannt, hat die Vorteile einer hohen Wärmeleitfähigkeit, eines guten elektrischen Widerstands und einer geringen Dichte; der Koeffizient von Aluminiumnitrid-Keramik ist dem von Silizium ähnlich. Die hervorragenden Eigenschaften machen Aluminiumnitridkeramik zu einem idealen Material für Anwendungen, bei denen eine gute Wärmeverteilungsfähigkeit und eine gute elektrische Isolierung erforderlich sind.

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Aluminiumnitridkeramiken können als Behälter für die Vakuumverdampfung und Metallschmelze verwendet werden und eignen sich besonders für Vakuumverdampfungstiegel für Aluminium, da Aluminiumnitridkeramiken in einem Vakuum mit niedrigem Dampfdruck erhitzt werden und das Aluminium auch bei Zersetzung nicht verschmutzen. In der Halbleiterindustrie kann die Verwendung von Aluminiumnitridtiegeln anstelle von Quarztiegeln zur Synthese von Arsenid die Verschmutzung von Si auf GaAs vollständig beseitigen und hochreine Produkte erhalten.

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